TAC(Tetrahedral Amphous Carbon,四面體非晶碳)涂層，是一種無DLC（類金剛石）涂層，其膜層可以達到85%以上的（金剛石）SP3鍵含量，具有的硬度(>75 GPa)、極低的摩擦系數(shù)(< 0.1)、高彈性模量、寬透光范圍、良好的化學惰性等優(yōu)點，其物理化學性質(zhì)和金剛石極其類似。

應用范圍：在消費電子、高精密模具、交通工具等領域具有優(yōu)勢。

目前現(xiàn)有的成熟技術制備的Ta-C涂層硬度基本穩(wěn)定在HV，一般而言，在涂層結合力達標的情況下，涂層的硬度和耐磨性能成正比，對于一些特殊情況下的使用，現(xiàn)有成熟技術制備的Ta-C 涂層很難達到HV的超硬要求。

而超硬類金剛石涂層工藝硬度可控制在4500~8000HV，大幅增加膜層硬度。

超硬類金剛石涂層：

TAC(Tetrahedral Amphous Carbon,四面體非晶碳)涂層，是一種無DLC（類金剛石）涂層，其膜層可以達到85%以上的（金剛石）SP3鍵含量，具有高的硬度(>75 GPa)、極低的摩擦系數(shù)(< 0.1)、高彈性模量、寬透光范圍、良好的化學惰性等優(yōu)點，其物理化學性質(zhì)和金剛石極其類似。

安徽純源鍍膜科技有限公司（簡稱純源鍍膜），是由新加坡歸國創(chuàng)業(yè)團隊于2014年創(chuàng)立的高科技公司，主要從事真空納米鍍膜設備的設計、研發(fā)、加工制造、銷售、售后服務和鍍膜生產(chǎn)服務。

公司目前擁有設計、研發(fā)、工藝、市場和生產(chǎn)等各方面的專業(yè)人才，在純離子鍍膜(Pure Ion Coating，簡稱PIC)、化學氣相沉積（CVD）、磁控濺射、多弧離子鍍、離子束刻蝕清洗等真空鍍膜應用領域都擁有國內(nèi)外技術。

膜層系列有Ta-C、DLC、低溫化物膜 (TiN、CrN等)、碳化物膜 (CrC等)和高致密金屬/合金膜等。

注明：以上數(shù)據(jù)來源于安徽純源鍍膜科技有限公司-先進材料實驗室-檢測結果